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      HMDS氣相成底膜烘箱  真空HMDS氣相烘箱

      HMDS氣相成底膜烘箱 真空HMDS氣相烘箱

      簡要描述:

      HMDS氣相成底膜烘箱 真空HMDS氣相烘箱在晶圓上行噴涂hmds預處理的工藝,將晶圓表面親水性的置換為疏水性的,使晶圓表面接觸角達到65或更高。

            在集成電路制造的光刻工藝中,為了保證光刻膠在晶圓處理過程中更好的完成圖形轉移,需要在晶圓上行噴涂hmds預處理的工藝,將晶圓表面親水性的置換為疏水性的,使晶圓表面接觸角達到65或更高。

            HMDS 可以通過旋轉稀釋溶液直接涂在晶片上,并允許 HMDS 旋轉干燥(HMDS 在室溫下非常易揮發(fā))。如果 HMDS 不適當干燥,則會導致顯著的附著力損失。雖然直接旋涂很容易,它僅在置換一小部分硅烷醇基團時有效。迄今為止,施加增粘劑的優(yōu)選方法是將基材置于 HMDS 蒸汽中,通常是在升高溫度和降低壓力下。這樣在沒有過多 HMDS 沉積的情況下對基材進行良好的涂覆,并且更高的溫度會導致與硅烷的反應更。用 HMDS 正確處理后,基材可以放置數天而不會明顯重新吸附水。在同一HMDS氣相成底膜烘箱中進行脫水烘烤和蒸汽灌注可提供性能。

      HMDS氣相成底膜烘箱  真空HMDS氣相烘箱適用產品

      硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版、玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料等。

      HMDS氣相成底膜烘箱  真空HMDS氣相烘箱性能

      HMDS藥液泄漏報警提示

      HMDS低液位報警提示

      工藝數據記錄功能

      藥液管道預熱功能

      程序鎖定保護等功能

      產品兼容性:1-12寸產品、方片、碎片及大型面板(可定制)

      溫度范圍:RT-200℃

      真空度:1torr

      操作方式:人機界面,一鍵運行

      HMDS控制:可控制HMDS 藥液添加量

      真空泵:無油渦旋真空泵

      附件功能:圖像反轉功能


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