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      曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

      更新時(shí)間:2024-12-17   點(diǎn)擊次數(shù):251次
        光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經(jīng)過(guò)再一次烘烤,因?yàn)檫@次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤”,簡(jiǎn)稱后烘或堅(jiān)膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。
       
        曝光后烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過(guò)加熱的方式,使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。
       
        對(duì)于酚醛樹(shù)脂體系的光刻膠,PEB可以擴(kuò)散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且,PEB溫度不同時(shí),感光劑的擴(kuò)散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時(shí),消除駐波效應(yīng)明顯。
       
        對(duì)于化學(xué)放大型光刻膠,在后烘過(guò)程中,光酸起到催化光刻膠樹(shù)脂的去保護(hù)反應(yīng)(Deprotection Reaction),又稱為脫保護(hù)反應(yīng)。
        大量實(shí)驗(yàn)表明,烤膠臺(tái)烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時(shí), 對(duì)熱盤(pán)溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
       
        烤膠臺(tái)/潔凈烘箱PEB烘烤性能
       
        智能型烤膠機(jī)
       
        加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品;
       
        溫度范圍:RT~300°C
       
        溫度精度:0.1°C;
       
        溫度均勻性:≤±0.5℃;
       
        電動(dòng)頂針調(diào)節(jié)高度: 0~30mm;
       
        加熱臺(tái)表面:耐腐蝕硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁制成;
       
        控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級(jí)PLC控制,實(shí)現(xiàn)在特定時(shí)間內(nèi)自動(dòng)升降,可以定時(shí)取片;
       
        潔凈烘箱
       
        無(wú)塵等級(jí):Class100;
       
        溫度范圍:RT~300/450℃;
       
        溫度均勻度:200℃±3℃;
       
        溫度波動(dòng)度:±0.5℃(空載)
       
        工作尺寸(mm):
       
        450×450×450
       
        500×500×500
       
        600×700×800(可定制)
       
        可擴(kuò)展功能:
       
        氧濃度檢測(cè),無(wú)塵無(wú)氧烘箱
       
        智能聯(lián)網(wǎng)功能,MES等工業(yè)自動(dòng)化軟件
       
        掃碼槍,掃碼溯源,一鍵讀取
       
        自動(dòng)門(mén)控,上位機(jī)程控,機(jī)械手搬運(yùn)產(chǎn)品
       

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