<li id="sqkkc"></li> 
厭氧烘箱應用背景
半導體功率整流器件在電子電力設備中廣泛應用，功率整流器件在電路中的電氣性能全部依靠其中的芯片來實現。芯片的穩定性和可靠性主要取決于芯片的鈍化保護質量。因此，提高芯片的鈍化保護質量是提高芯片的穩定性和可靠性的關鍵所在。用聚酰亞胺鈍化保護整流芯片生產的產品工藝成本降低了 10%，每年廢水排水量減少了 60% 。
厭氧烘箱應用工藝固化
將聚酰亞胺酸均勻涂敷在硅片的P+面，通過烘烤使涂敷在P+面的聚酰亞胺酸形成聚酰亞胺層，保護PN結，控制烘烤溫度。亞胺化反應一般在300~400℃條件下進行，反應產物之一的水被脫除，從而提高了酰亞胺化的反應速率，伴隨這一脫水過程，反應體系中的有機溶劑、未反應單體以及其他低沸點有機反應組分，如中間產物和雜質等，也會一同被蒸發脫除。
厭氧烘箱技術性能
溫度范圍： RT ～450℃；
氧含量：20ppm
規格尺寸：自定義
壓力：負壓/常壓，可選
